ＨＯＹＡ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第100位 441件
（
2013年：第99位 482件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第108位 377件
（2013年：第93位 434件）
（ランキング更新日：2025年8月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5542639 | ズームレンズ系 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5541997 | フラットパネルディスプレイ製造用多階調フォトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイ製造用フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545994 | 表示装置製造用多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5543873 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスク | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542989 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5537278 | ガラス板、プレス成形用素材、光学素子、薄板ガラスそれぞれの製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5539872 | 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5538638 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、透過型マスクブランク、反射型マスクブランク、透過型マスク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5538637 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、透過型マスクブランク、反射型マスクブランク、透過型マスク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5538591 | フォトマスクの検査方法及び検査装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5538513 | 多階調フォトマスク、パターン転写方法及び薄膜トランジスタの製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5535932 | フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5536481 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5528315 | 電子内視鏡用プロセッサ装置 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5528255 | 内視鏡画像処理システム | 2014年 6月25日 |
377 件中 136-150 件を表示
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5542639 5541997 5545994 5543873 5542989 5537278 5539872 5538638 5538637 5538591 5538513 5535932 5536481 5528315 5528255
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