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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第204位 213件
(2017年:第185位 291件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第136位 218件
(2017年:第113位 286件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6444021 | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6444680 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6446095 | パターンドメディア作製用基板およびパターンドメディア、並びにこれらの製造方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6440996 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2018年12月19日 | |
特許 6441012 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2018年12月19日 | |
特許 6437602 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 | 2018年12月12日 | |
特許 6433634 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2018年12月 5日 | |
特許 6429354 | ガラス基板の研磨方法、研磨液、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6430155 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6430585 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6430666 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6431543 | 磁気ディスク用基板の製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6425951 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6426078 | 磁気ディスク用ガラス基板、ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6427280 | 補正データ生成方法及び補正データ生成装置 | 2018年11月21日 |
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6444021 6444680 6446095 6440996 6441012 6437602 6433634 6429354 6430155 6430585 6430666 6431543 6425951 6426078 6427280
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