特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＨＯＹＡ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第216位　177件（2017年：第243位　171件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第136位　218件（2017年：第113位　286件）

（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6446095	パターンドメディア作製用基板およびパターンドメディア、並びにこれらの製造方法	2018年12月26日
特許 6444680	基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法	2018年12月26日
特許 6444021	光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法	2018年12月26日
特許 6441012	反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年12月19日
特許 6440996	反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年12月19日
特許 6437602	マスクブランク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法	2018年12月12日
特許 6433634	電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム	2018年12月 5日
特許 6429354	ガラス基板の研磨方法、研磨液、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法	2018年11月28日
特許 6430155	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法	2018年11月28日
特許 6430585	マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法	2018年11月28日
特許 6431543	磁気ディスク用基板の製造方法	2018年11月28日
特許 6430666	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法	2018年11月28日
特許 6425951	反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年11月21日
特許 6426078	磁気ディスク用ガラス基板、ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法	2018年11月21日
特許 6427280	補正データ生成方法及び補正データ生成装置	2018年11月21日

218 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6446095 6444680 6444021 6441012 6440996 6437602 6433634 6429354 6430155 6430585 6431543 6430666 6425951 6426078 6427280

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数