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ＨＯＹＡ株式会社

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6444021	光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法	2018年12月26日
特許 6444680	基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法	2018年12月26日
特許 6446095	パターンドメディア作製用基板およびパターンドメディア、並びにこれらの製造方法	2018年12月26日
特許 6440996	反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年12月19日
特許 6441012	反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年12月19日
特許 6437602	マスクブランク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法	2018年12月12日
特許 6433634	電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム	2018年12月 5日
特許 6429354	ガラス基板の研磨方法、研磨液、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法	2018年11月28日
特許 6430155	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法	2018年11月28日
特許 6430585	マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法	2018年11月28日
特許 6430666	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法	2018年11月28日
特許 6431543	磁気ディスク用基板の製造方法	2018年11月28日
特許 6425951	反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2018年11月21日
特許 6426078	磁気ディスク用ガラス基板、ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法	2018年11月21日
特許 6427280	補正データ生成方法及び補正データ生成装置	2018年11月21日

218 件中 1-15 件を表示

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6444021 6444680 6446095 6440996 6441012 6437602 6433634 6429354 6430155 6430585 6430666 6431543 6425951 6426078 6427280

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