特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ホーム > 特許ランキング > HOYA株式会社 > 2017年 > 特許一覧

HOYA株式会社

※ ログインすれば出願人(HOYA株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

 ■ 2017年 出願公開件数ランキング    第243位 171件 (下降2016年:第202位 208件)

 ■ 2017年 特許取得件数ランキング    第113位 286件 (下降2016年:第93位 350件)

(ランキング更新日:2026年11月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2012年  2013年  2014年  2015年  2016年  2018年  2019年  2020年  2021年  2022年  2023年  2024年  2025年  2026年 

公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6255026 シリカ砥粒、シリカ砥粒の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2017年12月27日
特許 6251524 マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 2017年12月20日
特許 6251088 付着物採取具および付着物採取装置 2017年12月20日
特許 6251059 電子内視鏡システム 2017年12月20日
特許 6248145 ガラス基板及びその製造方法 2017年12月13日
特許 6247878 HDD用ガラス基板 2017年12月13日
特許 6247349 眼鏡レンズ 2017年12月13日
特許 6247009 開瞼器 2017年12月13日
特許 6246946 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び洗浄装置 2017年12月13日
特許 6243920 ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 2017年12月 6日
特許 6242013 眼鏡レンズ、並びに眼鏡レンズの設計方法、製造方法及び製造システム 2017年12月 6日
特許 6242474 内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム 2017年12月 6日
特許 6243660 マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 2017年12月 6日
特許 6243565 内視鏡システム 2017年12月 6日
特許 6238282 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2017年11月29日

287 件中 1-15 件を表示

1 2 3 4 5 6 7次へ>

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6255026 6251524 6251088 6251059 6248145 6247878 6247349 6247009 6246946 6243920 6242013 6242474 6243660 6243565 6238282

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2026年 特許出願件数2026年 特許取得件数
2025年 特許出願件数2025年 特許取得件数
2024年 特許出願件数2024年 特許取得件数
2023年 特許出願件数2023年 特許取得件数
2022年 特許出願件数2022年 特許取得件数
2021年 特許出願件数2021年 特許取得件数
2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2012年 特許出願件数2012年 特許取得件数
2011年 特許出願件数2011年 特許取得件数
出願人を検索

今週の知財セミナー (11月9日~11月15日)

11月11日(水) - 大阪 大阪市

実務におけるノウハウ管理基礎

11月12日(木) - 大阪 大阪

特許侵害予防調査の基礎

11月12日(木) - オンライン

営業秘密管理セミナー

11月13日(金) - オンライン

米国での特許権利化(機械)

来週の知財セミナー (11月16日~11月22日)

11月17日(火) - オンライン

生成AI導入時の知財・法務上の留意点

11月19日(木) - 東京 港区

拒絶理由通知対応の基礎(化学)

11月20日(金) - 東京 港区

製品設計のための特許調査(化学)

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

IPP国際特許事務所

〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

康信国際特許事務所(北京康信知識産権代理有限責任公司)

Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

アクトエース国際特許商標事務所

愛知県小牧市小牧4丁目225番地2 澤屋清七ビル3 206 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング