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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第99位 482件
(2012年:第80位 531件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第93位 434件
(2012年:第78位 484件)
(ランキング更新日:2025年6月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5379461 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5377085 | 内視鏡 | 2013年12月25日 | |
特許 5377258 | 斜視型内視鏡の先端部構造 | 2013年12月25日 | |
特許 5377849 | 磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法および磁気ディスク製造方法 | 2013年12月25日 | 共同出願 |
特許 5377881 | フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5377130 | 内視鏡 | 2013年12月25日 | |
特許 5374599 | フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5372455 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びにこれらの製造方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5371183 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2013年12月18日 | 共同出願 |
特許 5373511 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク | 2013年12月18日 | 共同出願 |
特許 5371667 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5372403 | 多階調フォトマスク、及びパターン転写方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5369121 | 眼鏡レンズの評価方法、眼鏡レンズの設計方法、眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズの製造システム、及び眼鏡レンズ | 2013年12月18日 | |
特許 5366575 | 複数機種の内視鏡 | 2013年12月11日 | |
特許 5362771 | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクブランクスの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 | 2013年12月11日 |
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5379461 5377085 5377258 5377849 5377881 5377130 5374599 5372455 5371183 5373511 5371667 5372403 5369121 5366575 5362771
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