※ ログインすれば出願人(HOYA株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第80位 531件
(2011年:第54位 677件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第78位 484件
(2011年:第39位 754件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5016256 | 双眼拡大鏡 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5014822 | マスクブランク用レジスト下層膜形成組成物、マスクブランク及びマスク | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
特許 5013930 | 眼鏡装用パラメータ測定装置及び眼鏡装用パラメータ測定方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015184 | 情報記録媒体用ガラスブランク、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5014687 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子およびその製造方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5014323 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム及びその製造方法、光学素子及びその製造方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015202 | 可変開口絞機構を備えたズームレンズ鏡筒 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015201 | レンズ鏡筒の直進案内機構 | 2012年 8月29日 | |
特許 5014620 | レンズ鏡筒の遮光装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015537 | フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5014661 | 撮像装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015121 | 撮像装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5005688 | フォトクロミック膜およびそれを有するフォトクロミックレンズ、ならびにフォトクロミックレンズの製造方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5009416 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5009415 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年 8月22日 |
484 件中 151-165 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5016256 5014822 5013930 5015184 5014687 5014323 5015202 5015201 5014620 5015537 5014661 5015121 5005688 5009416 5009415
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。HOYA株式会社の知財の動向チェックに便利です。
8月26日(火) - 東京 港区
8月26日(火) - 東京 品川
8月26日(火) - 大阪 大阪市
8月26日(火) -
8月26日(火) -
8月27日(水) - 東京 港区
8月27日(水) -
8月27日(水) -
8月28日(木) - 東京 港区
8月28日(木) -
8月28日(木) -
8月29日(金) - 大阪 大阪市
8月29日(金) -
8月29日(金) -
8月29日(金) - 東京 港区
8月29日(金) -
8月26日(火) - 東京 港区
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
兵庫県西宮市高木西町18番5号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒153-0061 東京都目黒区中目黒1-8-1VORT中目黒Ⅰ3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング