特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＨＯＹＡ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第100位　441件（2013年：第99位　482件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第108位　377件（2013年：第93位　434件）

（ランキング更新日：2025年8月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5455734	電子内視鏡用光源装置	2014年 3月26日
特許 5455733	電子内視鏡用光源装置	2014年 3月26日
特許 5455688	内視鏡	2014年 3月26日
特許 5455550	電子内視鏡用プロセッサ	2014年 3月26日
特許 5455543	電子内視鏡システムおよび電子内視鏡用プロセッサ	2014年 3月26日
特許 5455472	内視鏡用対物レンズ、及び内視鏡	2014年 3月26日
特許 5455143	マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法	2014年 3月26日
特許 5454988	磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法	2014年 3月26日
特許 5453616	インプリント用モールドの製造方法	2014年 3月26日
特許 5453085	プラスチックレンズ製造用反応生成物の製造方法、プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ	2014年 3月26日
特許 5454969	電子機器用カバーガラスの製造方法、及びタッチセンサモジュールの製造方法	2014年 3月26日
特許 5452756	親水性表面を有するシリコーン含有共重合体成形品を作製する方法及び親水性表面を有するシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ	2014年 3月26日
特許 5455147	フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2014年 3月26日
特許 5450201	光学要素の退避機構	2014年 3月26日
特許 5443415	フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法	2014年 3月19日

377 件中 256-270 件を表示

... 18

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5455734 5455733 5455688 5455550 5455543 5455472 5455143 5454988 5453616 5453085 5454969 5452756 5455147 5450201 5443415

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＨＯＹＡ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数