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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第99位 482件
(2012年:第80位 531件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第93位 434件
(2012年:第78位 484件)
(ランキング更新日:2025年5月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5117272 | ズームレンズの調整方法 | 2013年 1月16日 | |
特許 5121020 | 多階調フォトマスク、フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 | 2013年 1月16日 | |
特許 5114949 | 眼内レンズ移植装置 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5114333 | 内視鏡用処置具 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5114224 | 内視鏡の配管部材の接続方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5114179 | 内視鏡用バイポーラ型高周波処置具 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5116616 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5115984 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子とそれぞれの製造方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5116773 | 眼鏡レンズ評価方法、これを用いた眼鏡レンズ設計方法、眼鏡レンズ製造方法、眼鏡レンズ製造システム及び眼鏡レンズ | 2013年 1月 9日 | |
特許 5117137 | ズームレンズ系 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5116592 | プラスチックレンズの染色方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5114367 | フォトマスクの製造方法及びそのフォトマスクを用いたパターン転写方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5117054 | 磁気ディスク用ガラス基板の内径測定装置、磁気ディスク用ガラス基板の内径測定方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 | 2013年 1月 9日 | 共同出願 |
特許 5115953 | フォトマスクブランク及びフォトマスク | 2013年 1月 9日 | 共同出願 |
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5117272 5121020 5114949 5114333 5114224 5114179 5116616 5115984 5116773 5117137 5116592 5114367 5117054 5115953
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