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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第100位 441件 (2013年:第99位 482件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第108位 377件 (2013年:第93位 434件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5611579 | 光学要素の位置制御装置 | 2014年10月22日 | |
特許 5612921 | 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 | 2014年10月22日 | |
特許 5606180 | シリカ微粒子の測定方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5607227 | 研磨装置 | 2014年10月15日 | |
特許 5608468 | 走査装置 | 2014年10月15日 | |
特許 5605917 | フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5606028 | フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5606826 | インプリント用離型層、インプリント用離型層付きモールド及びインプリント用離型層付きモールドの製造方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5601776 | 内視鏡用高周波処置具 | 2014年10月 8日 | |
特許 5602412 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクセットおよび半導体デバイスの製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5603582 | 表面修飾ジルコニアナノ結晶粒子およびその製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5602001 | 内視鏡および内視鏡挿入部先端への外皮固定方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5602930 | マスクブランクおよび転写用マスク | 2014年10月 8日 | |
特許 5601970 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡装置 | 2014年10月 8日 | |
特許 5602518 | 光学部品の製造方法 | 2014年10月 8日 |
377 件中 46-60 件を表示
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5611579 5612921 5606180 5607227 5608468 5605917 5606028 5606826 5601776 5602412 5603582 5602001 5602930 5601970 5602518
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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