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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第100位 441件 (2013年:第99位 482件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第108位 377件 (2013年:第93位 434件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5602518 | 光学部品の製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5602475 | レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5600321 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5600448 | 光学レンズ成形用型及びそれを用いた光学レンズの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5597544 | プラスチックレンズの製造方法および製造装置 | 2014年10月 1日 | |
特許 5599213 | モールドの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5597059 | マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5597444 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5596111 | 半導体デバイスの製造方法 | 2014年 9月24日 | |
特許 5592037 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク | 2014年 9月17日 | |
特許 5593224 | 磁気ディスク用基板及びその製造方法並びに磁気ディスク | 2014年 9月17日 | |
特許 5593058 | 電子内視鏡の信号ケーブル | 2014年 9月17日 | |
特許 5592299 | マスクブランクの欠陥分析方法 | 2014年 9月17日 | |
特許 5587113 | ズームレンズ系及びこれを用いた電子撮像装置 | 2014年 9月10日 | |
特許 5588404 | フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2014年 9月10日 |
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5602518 5602475 5600321 5600448 5597544 5599213 5597059 5597444 5596111 5592037 5593224 5593058 5592299 5587113 5588404
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11月27日(水) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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12月1日(日) -
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