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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1563位 15件 (2010年:第2121位 11件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第842位 33件 (2010年:第1381位 15件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4758343 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2011年 8月24日 | |
特許 4758358 | レチクル設計データにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装される方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4748936 | フォーカスマスキング構造、フォーカスパターンおよびその測定 | 2011年 8月17日 | |
特許 4746987 | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 | 2011年 8月10日 | |
特許 4739527 | レチクルを製造および検査するためのメカニズム | 2011年 8月 3日 | |
特許 4734261 | 連続変化するオフセットマークと、オーバレイ決定方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4726370 | 走査電子顕微鏡の較正 | 2011年 7月20日 | |
特許 4722038 | 単一ツール欠陥分類ソリューション | 2011年 7月13日 | |
特許 4719933 | 処理状況検知ウェハおよびデータ解析システム | 2011年 7月 6日 | |
特許 4691499 | 対象となる信号およびノイズ間のロバストな分離を可能にする装置および方法 | 2011年 6月 1日 | |
特許 4677231 | 向上された自動プロセス制御のためのオーバレイ診断の利用 | 2011年 4月27日 | |
特許 4647998 | 重ね合わせ誤差検出方法および装置 | 2011年 3月 9日 | |
特許 4643737 | 回折構造体、広帯域、偏光、エリプソメトリおよび下地構造の測定 | 2011年 3月 2日 | |
特許 4637114 | レチクル・レイアウト・データをシミュレートし、レチクル・レイアウト・データを検査し、レチクル・レイアウト・データの検査プロセスを生成する方法 | 2011年 2月23日 | |
特許 4638989 | 並列処理でのレチクル検査のための方法および装置 | 2011年 2月23日 |
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4758343 4758358 4748936 4746987 4739527 4734261 4726370 4722038 4719933 4691499 4677231 4647998 4643737 4637114 4638989
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
10月24日(木) -
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10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
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