- 2024年9月20日 更新 -
2020年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2020年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12781位 | 張 寧俶 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | ザウラー チェク エス.エル.オ. | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 有限会社フジイハード | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社山陽商会 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 門脇 重雄 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社トーヨーコー | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | オプティマス オーイー ソリューションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 佐伯 尚文 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 土田 幸雄 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 加藤 克己 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 千葉 正伸 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | チョク デ トレーディング カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社富岡電子工業 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 岡 直樹 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社スガイエンタープライズ | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 小寺 一也 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 池田 重一 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | ル,ユン−シン | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社チームAIBOD | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 一般社団法人JSCA | 1 | - | 0(24204位) |
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2020年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
1945位 | 日本ペイント・インダストリアルコ−ティングス株式会社 | 8 | 2333位 | 6 | 6(3088位) |
1945位 | イルミナ インコーポレイテッド | 8 | 3977位 | 3 | 45(655位) |
1945位 | エアロジェット ロケットダイン インコーポレイテッド | 8 | 2668位 | 5 | 0(33722位) |
1945位 | エスエムエイ ソーラー テクノロジー アクティエンゲゼルシャフト | 8 | 1635位 | 10 | 8(2497位) |
1945位 | 三重富士通セミコンダクター株式会社 | 8 | 1904位 | 8 | 4(4292位) |
1945位 | ソウル大学校産学協力団 | 8 | 1440位 | 12 | 14(1652位) |
1945位 | 深▲セン▼市華星光電技術有限公司 | 8 | 2668位 | 5 | 13(1756位) |
1945位 | ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 8 | - | 0 | 7(2749位) |
1945位 | 株式会社ホットアルバム炭酸泉タブレット | 8 | 2668位 | 5 | 1(12781位) |
1945位 | 日高精機株式会社 | 8 | 1904位 | 8 | 2(7573位) |
1945位 | 関西工事測量株式会社 | 8 | - | 0 | 6(3088位) |
1945位 | ダイアックス コーポレーション | 8 | - | 0 | 7(2749位) |
1945位 | 株式会社寺岡製作所 | 8 | 1904位 | 8 | 10(2114位) |
1945位 | シナプティヴ メディカル (バルバドス) インコーポレイテッド | 8 | 1904位 | 8 | 0(33722位) |
1945位 | ドレーゲルヴェルク アクチェンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト アウフ アクチェン | 8 | 2668位 | 5 | 3(5465位) |
1945位 | オキュラス ブイアール,エルエルシー | 8 | 1210位 | 15 | 22(1158位) |
1945位 | ヴォッベン プロパティーズ ゲーエムベーハー | 8 | 1635位 | 10 | 17(1415位) |
1945位 | 株式会社ナムコ | 8 | 3977位 | 3 | 14(1652位) |
1945位 | アクチエボラゲット エレクトロルックス | 8 | 2668位 | 5 | 5(3562位) |
1945位 | 株式会社青木固研究所 | 8 | 8774位 | 1 | 3(5465位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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