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- 2025年2月7日 更新 -
2022年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2022年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2022年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
2187位 | アリゴス セラピューティクス インコーポレイテッド | 10 | - | 0(27906位) | |
2187位 | アイオーアイ オレオ ゲーエムベーハー | 10 | - | 0(27906位) | |
2187位 | スターライト テクノロジーズ リミテッド | 10 | - | 0(27906位) | |
2187位 | 上▲海▼商▲湯▼▲臨▼▲港▼智能科技有限公司 | 10 | - | 1(10281位) | |
2187位 | 株式会社トッパンフォトマスク | 10 | - | 5(3150位) | |
2187位 | インターデジタル ブイシー ホールディングス フランス,エスアーエス | 10 | - | 0(27906位) | |
2387位 | ゼンコア インコーポレイテッド | 9 | ![]() |
7 | 9(2054位) |
2387位 | シェブロン・オロナイト・カンパニー・エルエルシー | 9 | ![]() |
8 | 3(4630位) |
2387位 | ユーオーピー エルエルシー | 9 | ![]() |
12 | 13(1537位) |
2387位 | ヴォッベン プロパティーズ ゲーエムベーハー | 9 | ![]() |
7 | 10(1898位) |
2387位 | アリババ・グループ・ホールディング・リミテッド | 9 | ![]() |
57 | 37(675位) |
2387位 | アイダエンジニアリング株式会社 | 9 | ![]() |
7 | 8(2222位) |
2387位 | サンアロマー株式会社 | 9 | ![]() |
8 | 12(1639位) |
2387位 | 株式会社日建設計 | 9 | ![]() |
2 | 9(2054位) |
2387位 | 株式会社 神崎高級工機製作所 | 9 | ![]() |
17 | 11(1763位) |
2387位 | 株式会社オーディオテクニカ | 9 | ![]() |
16 | 20(1089位) |
2387位 | 国立大学法人宇都宮大学 | 9 | ![]() |
11 | 6(2778位) |
2387位 | ボッシュ株式会社 | 9 | ![]() |
30 | 23(977位) |
2387位 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド | 9 | ![]() |
8 | 6(2778位) |
2387位 | バーゼル・ポリオレフィン・ゲーエムベーハー | 9 | ![]() |
5 | 2(6243位) |
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2022年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2022年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3150位 | ユニリーバー・アイピー・ホールディングス・ベー・フェー | 5 | ![]() |
3 | 6(3387位) |
3150位 | チャイナ・タバコ・カントン・インダストリアル・カンパニー・リミテッド | 5 | - | 0 | 0(37581位) |
3150位 | アンドレアス・デーリング | 5 | ![]() |
3 | 0(37581位) |
3150位 | Repro株式会社 | 5 | - | 0 | 2(8370位) |
3150位 | 浅田化学工業株式会社 | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | 株式会社トップ | 5 | - | 1(14391位) | |
3150位 | ベイジン、ターチア、インターネット、インフォメーション、テクノロジー、カンパニー、リミテッド | 5 | - | 21(1164位) | |
3150位 | 株式会社日本選別化工 | 5 | - | 1(14391位) | |
3150位 | エーエーシー オプティックス (ナンネイ) カンパニーリミテッド | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | ニン株式会社 | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | コーシム・ソチエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | 深▲せん▼市致尚科技股▲ふん▼有限公司 | 5 | - | 6(3387位) | |
3150位 | コザ ノベル マテリアル コリア カンパニー リミテッド | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | ホアウェイ クラウド コンピューティング テクノロジーズ カンパニー リミテッド | 5 | - | 4(4725位) | |
3150位 | 株式会社トッパンフォトマスク | 5 | - | 10(2187位) | |
3150位 | エスワイエス・エンジニアリング株式会社 | 5 | - | 0(37581位) | |
3150位 | ロゴスサイエンス株式会社 | 5 | - | 1(14391位) | |
3150位 | メルク・シャープ・アンド・ドーム・エルエルシー | 5 | - | 2(8370位) | |
3719位 | キアゲン ゲーエムベーハー | 4 | ![]() |
2 | 2(8370位) |
3719位 | スティロン ヨーロッパ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 4 | ![]() |
2 | 5(3931位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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