- 2025年7月16日 更新 -
2024年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2024年 出願公開分 - データ更新日:2025年7月16日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2024年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1646位 | アステラス製薬株式会社 | 13 | ![]() |
9 | 8(2210位) |
1646位 | フォイト パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 13 | ![]() |
7 | 5(3143位) |
1646位 | 株式会社 ハイヂィープ | 13 | ![]() |
4 | 6(2757位) |
1646位 | ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム | 13 | ![]() |
11 | 11(1722位) |
1646位 | シアトル ジェネティックス, インコーポレイテッド | 13 | ![]() |
20 | 9(2026位) |
1646位 | BASF INOACポリウレタン株式会社 | 13 | ![]() |
11 | 4(3695位) |
1646位 | ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーン | 13 | ![]() |
15 | 13(1531位) |
1646位 | ユニパルス株式会社 | 13 | ![]() |
16 | 7(2446位) |
1646位 | 株式会社ナチュラレーザ・ワン | 13 | ![]() |
16 | 11(1722位) |
1646位 | 三菱重工冷熱株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 5(3143位) |
1646位 | 株式会社石野製作所 | 13 | ![]() |
7 | 12(1617位) |
1646位 | アルストム レノバブレス エスパーニャ, エセ.エレ. | 13 | ![]() |
22 | 7(2446位) |
1646位 | ロケット フレール | 13 | ![]() |
33 | 31(762位) |
1646位 | アミカス セラピューティックス インコーポレイテッド | 13 | ![]() |
13 | 4(3695位) |
1646位 | 青木あすなろ建設株式会社 | 13 | ![]() |
6 | 5(3143位) |
1646位 | ユーシービー バイオファルマ エスピーアールエル | 13 | ![]() |
31 | 15(1355位) |
1646位 | チャイナ・テレコム・コーポレーション・リミテッド | 13 | ![]() |
19 | 20(1081位) |
1646位 | パナソニックシステムネットワークス株式会社 | 13 | - | 0 | 0(27650位) |
1646位 | エーツェーペー エントヴィッケルングゲゼルシャフト エムベーハー | 13 | ![]() |
9 | 12(1617位) |
1646位 | インプリア・コーポレイション | 13 | ![]() |
12 | 6(2757位) |
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2024年 特許登録分 - データ更新日:2025年7月16日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2024年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4647位 | テルノ・スコレヴォリ・エスピーエー・ユニペルソナレ | 3 | ![]() |
3 | 0(33742位) |
4647位 | マニエッティ・マレリ・エッセ・ピ・ア | 3 | ![]() |
2 | 0(33742位) |
4647位 | サイネクシス,インコーポレーテッド | 3 | ![]() |
3 | 1(13071位) |
4647位 | 中國石油化學工業開發股▲分▼有限公司 | 3 | ![]() |
1 | 3(5492位) |
4647位 | ミューズライブ インコーポレイテッド | 3 | - | 0 | 0(33742位) |
4647位 | リベスト インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
2 | 1(13071位) |
4647位 | クリアル・スリーディー・ソシエテ・アノニム | 3 | ![]() |
2 | 2(7679位) |
4647位 | ルネラ・バイオテック・インコーポレーテッド | 3 | ![]() |
2 | 0(33742位) |
4647位 | エンコーデッド セラピューティクス, インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
3 | 2(7679位) |
4647位 | パリデュス インク | 3 | - | 0 | 4(4317位) |
4647位 | インフラルクス・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 3 | - | 0 | 0(33742位) |
4647位 | ナノワイヤード ゲーエムベーハー | 3 | ![]() |
2 | 7(2711位) |
4647位 | 富士通インターコネクトテクノロジーズ株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 2(7679位) |
4647位 | 特許業務法人IPX | 3 | ![]() |
10 | 14(1550位) |
4647位 | Famz株式会社 | 3 | ![]() |
1 | 1(13071位) |
4647位 | アロジーン セラピューティクス,インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
1 | 7(2711位) |
4647位 | ジェイ. ワグナー ゲーエムベーハー | 3 | ![]() |
3 | 0(33742位) |
4647位 | (シーエヌビーエム)ボンブー デザイン アンド リサーチ インスティテュート フォー グラス インダストリー カンパニー,リミティド | 3 | ![]() |
5 | 3(5492位) |
4647位 | 江蘇聯瑞新材料股▲ふん▼有限公司 | 3 | - | 0 | 3(5492位) |
4647位 | ハーヴェー ハイドローリック エスイー | 3 | ![]() |
3 | 3(5492位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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