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インプリア・コーポレイション

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インプリア・コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-161495	スズ十二量体、及び強いＥＵＶ吸収を有する放射線パターニング可能なコーティング	2024年11月19日
特表 2024-540352	安定性が強化された有機スズフォトレジスト組成物	2024年10月31日
特開 2024-153658	基板上の無機放射線パターン形成組成物の安定化界面	2024年10月29日
特表 2024-535334	高解像度の潜像加工、コントラスト増強及び熱現像、加工のための装置	2024年 9月30日
特開 2024-122968	有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成	2024年 9月10日
特開 2024-122972	有機スズクラスター、有機スズクラスターの溶液、及び高解像度パターン形成への適用	2024年 9月10日
特開 2024-109608	低い金属汚染及び／又は微粒子汚染を有するモノアルキルスズトリアルコキシド及び／又はモノアルキルスズトリアミド、並びに対応する方法	2024年 8月14日
特開 2024-109695	金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法	2024年 8月14日
特表 2024-528521	重水素化されたオルガノスズ化合物、合成方法、及び放射線によるパターン形成	2024年 7月30日
特表 2024-525339	シリコン／ゲルマニウムを有する配位子を有する有機スズパターニング材料、前駆体組成物及び合成方法	2024年 7月12日
特開 2024-63052	有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物および対応する方法	2024年 5月10日
特開 2024-51126	パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法	2024年 4月10日
特開 2024-26361	有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物	2024年 2月28日

13 件中 1-13 件を表示

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2024-161495 2024-540352 2024-153658 2024-535334 2024-122968 2024-122972 2024-109608 2024-109695 2024-528521 2024-525339 2024-63052 2024-51126 2024-26361

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