総区分数 | 200区分 | 1商標あたりの平均区分数 | 3.57区分 |
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類似群コード最頻出 | - | 区分組み合わせ最頻出 | 42類 & 9類 (出現率39%) |
指定商品・指定役務 | 総数 | 3589 | 1商標あたりの平均数 | 64 |
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称呼パターン | 先頭2音 組み合わせ |
1位イン (出現率13%)
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2位シナ (出現率11%)
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先頭末尾音 組み合せ |
1位シス (出現率11%)
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2位イス (出現率9%)
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登録番号 | 6838019 |
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商標タイプ | |
称呼 | エレクトロニックマテリアルズ |
区分 指定商品 指定役務 |
第1類
フォトレジスト
第3類
フォトレジストの剥離溶剤 溶剤 半導体製造用エッチング液 現像液 半導体製造用化学品 電子部品用感光性ポリイミドコーティング剤 半導体製造用の半導体ウェハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質 半導体製造工程において使用する半導体ウェハー洗浄剤 半導体製造工程において使用する基板洗浄剤 化学品 工業用のり及び接着剤 写真材料 原料プラスチック 半導体用研磨スラリー
第9類
半導体
第40類
半導体ウェハーの試験装置 半導体素子 半導体用ウェハー 回路基板 集積回路 イメージセンサ用半導体素子 半導体撮像素子(イメージセンサ) 液晶ディスプレイ 理化学機械器具 写真機械器具 映画機械器具 光学機械器具 測定機械器具 配電用又は制御用の機械器具 回転変流機 調相機 太陽電池 電池 電気磁気測定器 電線及びケーブル 電気通信機械器具 携帯情報端末 電子応用機械器具及びその部品 受託による化学品の製造
第42類
半導体の加工 半導体ウェハーの加工 半導体ウェハーの洗浄 半導体集積回路用ウェハーのエッチング処理 半導体製造用フォトマスクの加工処理 集積回路及び半導体素子製造用フォトマスクの製造 受託による半導体回路の製造 受託による半導体ウェハーの製造 集積回路・回路基板・半導体の組立加工 半導体又は集積回路に関する試験・検査又は研究
半導体又は集積回路の設計及びこれらに関する助言 半導体加工技術の分野における研究 機械・装置若しくは器具(これらの部品を含む。)又はこれらの機械等により構成される設備の設計 電子計算機のプログラムの設計・作成又は保守 化学に関する研究 機械器具に関する試験又は研究 電子計算機の貸与 電子計算機用プログラムの提供 |
類似群コード |
第1類 01A01 01A02 04A01 10E01 34A01第3類 13B03第9類 10A01 10B01 10C01 11A01 11A03 11A04 11A05 11B01 11C01 11C02第40類 40C01 40H99第42類 42N03 42P02 42Q01 42Q02 42Q99 42X11 |
権利者 |
識別番号306037311 富士フイルム株式会社 |
出願日 | 2023年12月25日 |
登録日 | 2024年8月27日 |
代理人 | 特許業務法人栄光特許事務所 |