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富士フイルム株式会社商標データ

2024年11月25日更新

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商標ランキング2024年 39位(56件)  前年 50位(54件)
総区分数200区分1商標あたりの平均区分数3.57区分
類似群コード最頻出区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ42類 & 9類 (出現率39%)
指定商品・指定役務総数35891商標あたりの平均数64
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位イン (出現率13%)
2位シナ (出現率11%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位シス (出現率11%)
2位イス (出現率9%)

商標登録第6838019号

商標
登録番号 6838019
商標タイプ
称呼 エレクトロニックマテリアルズ
区分
指定商品
指定役務
第1類
フォトレジスト
フォトレジストの剥離溶剤
溶剤
半導体製造用エッチング液
現像液
半導体製造用化学品
電子部品用感光性ポリイミドコーティング剤
半導体製造用の半導体ウェハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質
半導体製造工程において使用する半導体ウェハー洗浄剤
半導体製造工程において使用する基板洗浄剤
化学品
工業用のり及び接着剤
写真材料
原料プラスチック
第3類
半導体用研磨スラリー
第9類
半導体
半導体ウェハーの試験装置
半導体素子
半導体用ウェハー
回路基板
集積回路
イメージセンサ用半導体素子
半導体撮像素子(イメージセンサ)
液晶ディスプレイ
理化学機械器具
写真機械器具
映画機械器具
光学機械器具
測定機械器具
配電用又は制御用の機械器具
回転変流機
調相機
太陽電池
電池
電気磁気測定器
電線及びケーブル
電気通信機械器具
携帯情報端末
電子応用機械器具及びその部品
第40類
受託による化学品の製造
半導体の加工
半導体ウェハーの加工
半導体ウェハーの洗浄
半導体集積回路用ウェハーのエッチング処理
半導体製造用フォトマスクの加工処理
集積回路及び半導体素子製造用フォトマスクの製造
受託による半導体回路の製造
受託による半導体ウェハーの製造
集積回路・回路基板・半導体の組立加工
第42類
半導体又は集積回路に関する試験・検査又は研究
半導体又は集積回路の設計及びこれらに関する助言
半導体加工技術の分野における研究
機械・装置若しくは器具(これらの部品を含む。)又はこれらの機械等により構成される設備の設計
電子計算機のプログラムの設計・作成又は保守
化学に関する研究
機械器具に関する試験又は研究
電子計算機の貸与
電子計算機用プログラムの提供
類似群コード

第1類

01A01 01A02 04A01 10E01 34A01

第3類

13B03

第9類

10A01 10B01 10C01 11A01 11A03 11A04 11A05 11B01 11C01 11C02

第40類

40C01 40H99

第42類

42N03 42P02 42Q01 42Q02 42Q99 42X11
権利者

識別番号306037311

富士フイルム株式会社
出願日 2023年12月25日
登録日 2024年8月27日
代理人 特許業務法人栄光特許事務所

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募集時にメールをもらえる特許事務所・大学TLO等

メールをもらえる特許事務所,知財部など 続き

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