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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第330位 99件
(
2020年:第214位 181件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第246位 117件
(
2020年:第231位 124件)
(ランキング更新日:2026年11月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-111705 | 銅箔複合材料、電磁波シールド筐体及びその製造方法 | 2021年 8月 2日 | |
| 再表 2019-220675 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2021年 7月15日 | |
| 特開 2021-103697 | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 | 2021年 7月15日 | |
| 特開 2021-100757 | プリント基板屑からの有価金属の回収方法 | 2021年 7月 8日 | |
| 再表 2019-208525 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-98886 | 積層造形用金属粉末及び該金属粉末を用いて作製した積層造形物 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-98887 | 積層造形用金属粉末及び該金属粉末を用いて作製した積層造形物 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-95595 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2021年 6月24日 | |
| 特開 2021-95596 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2021年 6月24日 | |
| 再表 2019-208520 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-90963 | プリント基板屑の粉砕装置 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-91589 | リン化インジウム基板、半導体エピタキシャルウエハ、及びリン化インジウム基板の製造方法 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-91590 | リン化インジウム基板、半導体エピタキシャルウエハ、及びリン化インジウム基板の製造方法 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-91591 | リン化インジウム基板、半導体エピタキシャルウエハ、及びリン化インジウム基板の製造方法 | 2021年 6月17日 | |
| 再表 2019-208521 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2021年 6月10日 |
99 件中 61-75 件を表示
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2021-111705 2019-220675 2021-103697 2021-100757 2019-208525 2021-98886 2021-98887 2021-95595 2021-95596 2019-208520 2021-90963 2021-91589 2021-91590 2021-91591 2019-208521
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