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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2668位 8件 (2012年:第1162位 23件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2956位 6件 (2012年:第1784位 13件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-242099 | フロンガスの無害化処理方法 | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-234384 | 非鉄金属の電解採取方法およびそれに用いるアノードの製造方法 | 2013年11月21日 | 共同出願 |
特開 2013-231112 | シクロデキストリンとシリカ含有物質との複合材料、及びその製造方法、並びにガス吸着剤 | 2013年11月14日 | 共同出願 |
特開 2013-209237 | 金属−セラミックス接合基板の製造方法 | 2013年10月10日 | |
特開 2013-211390 | セラミックス回路基板の製造方法 | 2013年10月10日 | |
特開 2013-209532 | シクロデキストリンと多孔質シリカ粒子との複合材料、及びその製造方法、金属抽出剤、セシウム抽出剤、並びにガス吸着剤 | 2013年10月10日 | 共同出願 |
特開 2013-173666 | 金属−セラミックス接合基板の製造方法 | 2013年 9月 5日 | |
特開 2013-4404 | 二次電池用電極材およびその製造方法 | 2013年 1月 7日 |
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2013-242099 2013-234384 2013-231112 2013-209237 2013-211390 2013-209532 2013-173666 2013-4404
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