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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第2275位 9件
(2014年:第1590位 15件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1854位 9件
(2014年:第2147位 10件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5835961 | 金属の浸出方法 | 2015年12月24日 | |
特許 5837756 | 新規化合物、金属抽出剤、及びその応用 | 2015年12月24日 | |
特許 5813917 | はんだ粉の製造方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5813972 | リチウム−遷移金属複合酸化物粉末及びその製造方法並びに該粉末を用いた全固体リチウム電池用正極活物質 | 2015年11月17日 | |
特許 5792927 | 酸化チタン電極の合成方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5764395 | 二次電池用電極材およびその製造方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5759785 | 白金族金属を含有するブラストサンドからの白金族金属回収方法 | 2015年 8月 5日 | |
特許 5755377 | 放射性セシウム除染剤の製造方法及び放射性セシウムの除去方法 | 2015年 7月29日 | |
特許 5753960 | 放射性セシウム除染剤及び放射性セシウムの除去方法 | 2015年 7月22日 | |
特許 5718734 | 二次電池用電極材およびその製造方法 | 2015年 5月13日 | |
特許 5681427 | リチウム−遷移金属酸化物粉体およびその製造方法、リチウムイオン電池用正極活物質、並びにリチウムイオン二次電池 | 2015年 3月11日 | |
特許 5684551 | III族窒化物半導体成長用基板、III族窒化物半導体エピタキシャル基板、III族窒化物半導体素子およびIII族窒化物半導体自立基板、ならびに、これらの製造方法 | 2015年 3月11日 | |
特許 5665463 | III族窒化物半導体素子製造用基板およびIII族窒化物半導体自立基板またはIII族窒化物半導体素子の製造方法 | 2015年 2月 4日 |
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5835961 5837756 5813917 5813972 5792927 5764395 5759785 5755377 5753960 5718734 5681427 5684551 5665463
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4月23日(水) -
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