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信越化学工業株式会社

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 ■ 2025年 出願公開件数ランキング    第61位 437件 (上昇2024年:第79位 375件)

 ■ 2025年 特許取得件数ランキング    第64位 394件 (上昇2024年:第79位 379件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2025-179421 シリコーンエマルション組成物、及び剥離フィルム 2025年12月10日
特開 2025-177553 付加硬化型シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置 2025年12月 5日
特開 2025-177372 モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 2025年12月 5日
特開 2025-177522 低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-177523 セルロースエーテルの製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-177544 低置換度ヒドロキシプロピルセルロース及びその製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-177849 第四級アンモニウム修飾シリカ分散液及び第四級アンモニウム修飾シリカ分散液の製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-177864 第四級アンモニウム修飾シリカ分散液の製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-178184 ヒドロキシプロピルメチルセルロース酢酸エステルコハク酸エステル及びヒドロキシプロピルメチルセルロース酢酸エステルコハク酸エステルの製造方法 2025年12月 5日
特開 2025-177712 常磁性ガーネット型透明セラミックス、その製造方法、磁気光学材料、及び磁気光学デバイス 2025年12月 5日
特開 2025-176448 磁気冷凍材料の製造方法及び磁気冷凍材料 2025年12月 4日
特開 2025-176523 オニウム塩型モノマー、ポリマー、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 2025年12月 4日
特開 2025-176529 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法 2025年12月 4日
特開 2025-175800 深共晶液体、生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 2025年12月 3日
特開 2025-175289 下地基板及び単結晶ダイヤモンド積層基板並びにそれらの製造方法 2025年12月 1日

443 件中 31-45 件を表示

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2025-179421 2025-177553 2025-177372 2025-177522 2025-177523 2025-177544 2025-177849 2025-177864 2025-178184 2025-177712 2025-176448 2025-176523 2025-176529 2025-175800 2025-175289

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