特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2026年出願公開件数ランキング　　　第40位　124件（2025年：第61位　425件）

　■　2026年特許取得件数ランキング　　　第66位　86件（2025年：第64位　386件）

（ランキング更新日：2026年3月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2026-50585	室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物	2026年 3月23日
特開 2026-49379	熱伝導性シリコーングリース組成物	2026年 3月18日
特開 2026-48778	基板、移載方法、ＬＥＤパネルの製造方法及びデバイスの製造方法	2026年 3月17日
特開 2026-47779	ジイン含有アミノ変性オルガノポリシロキサン化合物を含む２液硬化型シリコーン組成物及びその硬化物	2026年 3月16日
特開 2026-46748	改質ポリシラザン硬化被膜の製造方法、及び改質ポリシラザン硬化被膜	2026年 3月13日
特開 2026-46832	シンチレータ用積層体およびその製造方法	2026年 3月13日
特開 2026-46918	レジスト組成物、積層体及びパターン形成方法	2026年 3月13日
特開 2026-47162	位相シフトマスクブランク、及び位相シフトマスクの製造方法	2026年 3月13日
特開 2026-43115	結晶性酸化物半導体膜の製造方法及び原料溶液の製造方法	2026年 3月12日
特開 2026-43384	被覆物品	2026年 3月12日
特開 2026-43540	オニウム塩、光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法	2026年 3月12日
特開 2026-43544	オニウム塩型モノマー、モノマー型光酸発生剤、ポリマー、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法	2026年 3月12日
特開 2026-44250	化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2026年 3月12日
特開 2026-44251	化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2026年 3月12日
特開 2026-42362	オニウム塩、化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2026年 3月11日

127 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2026-50585 2026-49379 2026-48778 2026-47779 2026-46748 2026-46832 2026-46918 2026-47162 2026-43115 2026-43384 2026-43540 2026-43544 2026-44250 2026-44251 2026-42362

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数