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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第119位 349件
(
2018年:第119位 343件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第73位 341件
(
2018年:第71位 392件)
(ランキング更新日:2026年10月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-220511 | マイクロディスプレイ用基板の製造方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-219495 | フォトマスクブランク関連基板の評価方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218495 | 紫外線硬化型シリコーンゴム組成物および硬化物 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218337 | 化合物及び有機膜形成用組成物 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218336 | 化合物、化合物の製造方法及び有機膜形成用組成物 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218312 | 有機ケイ素化合物の製造方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218299 | 環状アミノオルガノキシシラン化合物およびその製造方法 | 2019年12月26日 | |
| 再表 2018-159754 | 炭化珪素基板の製造方法及び炭化珪素基板 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-214207 | スクリーン印刷機、スクリーン印刷方法及び太陽電池の電極形成方法 | 2019年12月19日 | |
| 再表 2018-159595 | ヒドロシリル化反応、水素化反応およびヒドロシラン還元反応用触媒 | 2019年12月19日 | |
| 再表 2018-159599 | 遷移金属−イソシアニド錯体の製造方法 | 2019年12月19日 | |
| 再表 2018-180704 | 付加硬化型シリコーン組成物 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-214640 | 付加硬化型液状導電性シリコーンゴム組成物及び電子写真式画像形成部材 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216180 | GaN積層基板の製造方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-214704 | パーフルオロポリエーテル化合物の分離精製方法 | 2019年12月19日 |
369 件中 1-15 件を表示
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2019-220511 2019-219495 2019-218495 2019-218337 2019-218336 2019-218312 2019-218299 2018-159754 2019-214207 2018-159595 2018-159599 2018-180704 2019-214640 2019-216180 2019-214704
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