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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第569位 56件
(2020年:第1415位 17件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第9350位 1件
(2020年:第24204位 0件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-174988 | 縦型炉の反応器内に配置されるように構成されるインジェクターおよび縦型炉 | 2021年11月 1日 | |
特開 2021-174992 | 冷却ガス供給部を備える垂直バッチ炉組立品 | 2021年11月 1日 | |
特表 2021-529254 | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 | 2021年10月28日 | |
特開 2021-170640 | シリコンゲルマニウム層およびシリコン層を含む構造を形成する方法、前記方法を使用して形成されるデバイス、ならびに前記方法を実施するためのシステム | 2021年10月28日 | |
特開 2021-166286 | シャワーヘッド用洗浄設備 | 2021年10月14日 | |
特表 2021-525455 | 浸透性材料に浸透させる浸透装置および方法 | 2021年 9月24日 | |
特開 2021-142637 | 調整可能な関節を備えた基材ハンドリング装置 | 2021年 9月24日 | |
特開 2021-144933 | ロックアウトタグアウトアセンブリおよびシステム、ならびにそれらを使用する方法 | 2021年 9月24日 | |
特開 2021-141321 | 反応器システムのアライメントフィクスチャ | 2021年 9月16日 | |
特開 2021-126649 | 多方向性反応チャンバを有する反応器システム | 2021年 9月 2日 | |
特開 2021-127522 | ガス分配アセンブリおよびその使用方法 | 2021年 9月 2日 | |
特開 2021-129112 | 基板処理装置、キャリブレーション方法 | 2021年 9月 2日 | |
特開 2021-123800 | 炭素材料を含む構造を形成する方法、同方法を使用して形成された構造、および構造を形成するためのシステム | 2021年 8月30日 | |
特表 2021-521324 | 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法 | 2021年 8月26日 | |
特開 2021-115573 | 反応器システム用汚染物質トラップシステム | 2021年 8月10日 |
56 件中 16-30 件を表示
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2021-174988 2021-174992 2021-529254 2021-170640 2021-166286 2021-525455 2021-142637 2021-144933 2021-141321 2021-126649 2021-127522 2021-129112 2021-123800 2021-521324 2021-115573
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6月13日(金) -
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6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月19日(木) - 大阪 大阪市
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6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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