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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2026-169784	寄生プラズマ低減デバイスおよびそれを有する基材処理装置	2026年10月20日
特開 2026-169179	トゥームストーン構造システムおよび方法	2026年10月16日
特開 2026-169178	熱管理システムおよび方法	2026年10月16日
特開 2026-169165	反応器システム用シールシステム	2026年10月16日
特開 2026-169164	下地層を形成するための方法、半導体構造、および反応器システム	2026年10月16日
特開 2026-167600	ウエハボート	2026年10月14日
特開 2026-164956	極紫外線照射量低減に適したドープ下地層	2026年10月 9日
特開 2026-143361	遷移金属含有膜を堆積させるための方法およびシステム	2026年 9月 8日
特開 2026-140690	支持構造	2026年 9月 2日
特開 2026-137087	基材サセプタアセンブリ	2026年 8月26日
特開 2026-137086	垂直チャネルトランジスタ構造の少なくとも一部を含む半導体層スタックを形成する方法	2026年 8月26日
特開 2026-134956	流れ制御リングを有する基板処理装置、および基板処理方法	2026年 8月21日
特開 2026-131001	オンウエハプロセス改善のためのＲＦ電力の制御	2026年 8月13日
特開 2026-129678	薄層用の堆積前駆体としてのホスフィンイミド錯体	2026年 8月12日
特開 2026-129651	流量制御リングアセンブリおよびそれを使用する方法	2026年 8月12日

84 件中 1-15 件を表示

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2026-169784 2026-169179 2026-169178 2026-169165 2026-169164 2026-167600 2026-164956 2026-143361 2026-140690 2026-137087 2026-137086 2026-134956 2026-131001 2026-129678 2026-129651

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