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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2026-164956	極紫外線照射量低減に適したドープ下地層	2026年10月 9日
特開 2026-143361	遷移金属含有膜を堆積させるための方法およびシステム	2026年 9月 8日
特開 2026-140690	支持構造	2026年 9月 2日
特開 2026-137087	基材サセプタアセンブリ	2026年 8月26日
特開 2026-137086	垂直チャネルトランジスタ構造の少なくとも一部を含む半導体層スタックを形成する方法	2026年 8月26日
特開 2026-134956	流れ制御リングを有する基板処理装置、および基板処理方法	2026年 8月21日
特開 2026-131001	オンウエハプロセス改善のためのＲＦ電力の制御	2026年 8月13日
特開 2026-129651	流量制御リングアセンブリおよびそれを使用する方法	2026年 8月12日
特開 2026-129678	薄層用の堆積前駆体としてのホスフィンイミド錯体	2026年 8月12日
特開 2026-127597	ウエハキャリア	2026年 8月 6日
特開 2026-116845	化学物質送達のための方法および装置	2026年 7月13日
特開 2026-116750	多孔質リフトピンを有する反応器システム	2026年 7月10日
特開 2026-116236	固体原料容器および監視方法	2026年 7月 9日
特開 2026-115006	半導体処理システム用の循環ダクト構造	2026年 7月 8日
特開 2026-111545	シャワーヘッド加熱パッケージおよびシャワーヘッド加熱パッケージを用いた基板処理装置	2026年 7月 3日

78 件中 1-15 件を表示

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2026-164956 2026-143361 2026-140690 2026-137087 2026-137086 2026-134956 2026-131001 2026-129651 2026-129678 2026-127597 2026-116845 2026-116750 2026-116236 2026-115006 2026-111545

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