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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

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  2024年 出願公開件数ランキング    第457位 61件 下降2023年:第405位 81件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第496位 49件 上昇2023年:第1516位 13件)

(ランキング更新日:2024年11月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-163058 液体前駆体容器、液体前駆体システム、及び液体前駆体容器を有する半導体処理システム、並びに液体前駆体を使用して材料層を堆積する方法 2024年11月21日
特開 2024-161008 表面改質のための方法、システム、および装置 2024年11月15日
特開 2024-161046 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 2024年11月15日
特開 2024-159655 固体原料化学物質の気化器 2024年11月 8日
特開 2024-159774 反応チャンバーにおいて循環堆積プロセスにより基材上に酸化ハフニウムランタン膜を堆積させるための方法 2024年11月 8日
特開 2024-154393 静電チャックを備える基板処理装置 2024年10月30日
特開 2024-137830 半導体構造を形成する方法 2024年10月 7日
特開 2024-127842 基材処理システムにおける制御された環境を監視するためのシステム及び方法 2024年 9月20日
特開 2024-122905 膜均一性改善能力を有するウエハ処理装置 2024年 9月 9日
特開 2024-120932 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 2024年 9月 5日
特開 2024-109535 膜堆積および制御のための方法、アセンブリ、およびシステム 2024年 8月14日
特開 2024-106981 共有排気ユニット、および共有排気ユニットを含む基材処理装置 2024年 8月 8日
特開 2024-104742 半導体製造加工のための重り付きリフトピン構造 2024年 8月 5日
特開 2024-101550 前駆体圧力を制御するための弁パルシング 2024年 7月29日
特開 2024-96048 遠隔固体補充チャンバ 2024年 7月11日

61 件中 1-15 件を表示

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2024-163058 2024-161008 2024-161046 2024-159655 2024-159774 2024-154393 2024-137830 2024-127842 2024-122905 2024-120932 2024-109535 2024-106981 2024-104742 2024-101550 2024-96048

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