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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第258位 54件
(2024年:第425位 74件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第425位 26件
(2024年:第488位 54件)
(ランキング更新日:2025年6月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2025-31724 | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 | 2025年 3月 7日 | |
特開 2025-29590 | 窒化ケイ素の選択的堆積のための多室型反応器およびその使用方法 | 2025年 3月 6日 | |
特開 2025-28817 | 別のチャンバから導入された冷却ガスを使用する基材冷却および/または基材加熱のためのシステムおよび方法 | 2025年 3月 5日 | |
特開 2025-28880 | 選択的パッシベーションおよび選択的堆積 | 2025年 3月 5日 | |
特開 2025-28935 | 周期的堆積プロセスにより基材上に遷移金属含有膜を形成する方法 | 2025年 3月 5日 | |
特開 2025-28165 | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 | 2025年 2月28日 | |
特開 2025-23839 | EUV露光量低減層、関連する構造、ならびにそれらの製造のための方法およびシステム | 2025年 2月17日 | |
特開 2025-21451 | 補助接地経路を有するウエハ処理装置 | 2025年 2月13日 | |
特開 2025-20034 | リフトピン、リフトピン配設およびリフトピン配設を有する半導体処理システム、ならびに半導体処理システム用のリフトピン配設を作製する方法 | 2025年 2月 7日 | |
特開 2025-20035 | リフトピン、リフトピン配置、およびリフトピン配置を有する半導体処理システム、ならびに半導体処理システム用のリフト配置を作製する方法 | 2025年 2月 7日 | |
特開 2025-20036 | その場測定の方法および装置 | 2025年 2月 7日 | |
特開 2025-20037 | 反射器、反射器を有する半導体プロセッシングシステム、および反射器を使用して半導体プロセッシングシステム内で材料層を堆積する方法 | 2025年 2月 7日 | |
特開 2025-18987 | 前駆体送達容器、前駆体送達システム、および前駆体堆積装置 | 2025年 2月 6日 | |
特開 2025-13284 | チャンバおよび容器のためのリッド移動システムおよび方法 | 2025年 1月24日 | |
特開 2025-11049 | 静電チャック装置及びそれを備えた基板処理装置 | 2025年 1月23日 |
54 件中 31-45 件を表示
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2025-31724 2025-29590 2025-28817 2025-28880 2025-28935 2025-28165 2025-23839 2025-21451 2025-20034 2025-20035 2025-20036 2025-20037 2025-18987 2025-13284 2025-11049
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6月4日(水) -
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6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
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6月11日(水) -
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6月12日(木) -
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