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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第317位 90件
(
2024年:第425位 74件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第380位 59件
(
2024年:第488位 54件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7699909 | 反応器、反応器を含むシステム、並びにこれを製造する方法及び使用する方法 | 2025年 6月30日 | |
| 特許 7691223 | 半導体基材処理用サセプタ | 2025年 6月11日 | |
| 特許 7691286 | 基材処理装置、装置の反応器を移動させるための反応器移動装置、および装置の反応器を保守する方法 | 2025年 6月11日 | |
| 特許 7674846 | 炭素材料を含む構造を形成する方法、同方法を使用して形成された構造、および構造を形成するためのシステム | 2025年 5月12日 | |
| 特許 7674105 | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 | 2025年 5月 9日 | |
| 特許 7666977 | 固体ソースプリカーサ容器 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7664056 | 反応器システムのアライメントフィクスチャ | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7663657 | 低温でのSiNの堆積用Si前駆体 | 2025年 4月16日 | |
| 特許 7659972 | 層形成方法および装置 | 2025年 4月10日 | |
| 特許 7659984 | コバルトメタライゼーションのためのシステムおよび方法 | 2025年 4月10日 | |
| 特許 7655712 | 周期的プラズマ増強堆積プロセスによって形状選択的な酸化シリコン膜を形成する方法 | 2025年 4月 2日 | |
| 特許 7655727 | 高アスペクト比特徴部を形成する方法 | 2025年 4月 2日 | |
| 特許 7654365 | 垂直バッチ炉組立体 | 2025年 4月 1日 | |
| 特許 7654366 | カセット蓋開口デバイス | 2025年 4月 1日 | |
| 特許 7653220 | プレクリーンおよびエッチング装置のための高温コーティングならびに関連する方法 | 2025年 3月28日 |
59 件中 31-45 件を表示
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7699909 7691223 7691286 7674846 7674105 7666977 7664056 7663657 7659972 7659984 7655712 7655727 7654365 7654366 7653220
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11月5日(水) -
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