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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第425位 74件 (2023年:第405位 81件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第488位 54件 (2023年:第1516位 13件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7603377 | 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置 | 2024年12月20日 | |
特許 7599862 | 基材処理装置および方法 | 2024年12月16日 | |
特許 7598201 | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 | 2024年12月11日 | |
特許 7597529 | トポロジー制御されたアモルファスカーボンポリマー膜の形成方法 | 2024年12月10日 | |
特許 7590188 | インジェクター | 2024年11月26日 | |
特許 7587353 | 気相反応器システムおよびその使用方法 | 2024年11月20日 | |
特許 7587387 | 膜を選択的にエッチングするための装置および方法 | 2024年11月20日 | |
特許 7584887 | 基材処理装置および方法 | 2024年11月18日 | |
特許 7578748 | モリブデン又はタングステン含有薄膜のALD用前駆体の合成及び使用方法 | 2024年11月 6日 | |
特許 7575187 | 基材を処理するための基材処理装置 | 2024年10月29日 | |
特許 7570853 | 反応物質気化システムのための加熱ゾーン分離 | 2024年10月22日 | |
特許 7563908 | トポロジー制御無定形炭素ポリマー膜を形成する方法 | 2024年10月 8日 | |
特許 7548740 | 中間チャンバーを備える半導体気相エッチング装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7547037 | 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7542939 | 基材表面および関連する半導体デバイス構造上のギャップ特徴を充填するための方法 | 2024年 9月 2日 |
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7603377 7599862 7598201 7597529 7590188 7587353 7587387 7584887 7578748 7575187 7570853 7563908 7548740 7547037 7542939
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1月11日(土) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
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1月14日(火) - 東京 港区
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