特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

※ ログインすれば出願人(エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2026年出願公開件数ランキング　　　第335位　78件（2025年：第295位　111件）

　■　2026年特許取得件数ランキング　　　第451位　43件（2025年：第395位　67件）

（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7879212	ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法	2026年 6月23日
特許 7875238	金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法	2026年 6月17日
特許 7868954	シャワープレート、基材処理装置、および基材処理方法	2026年 6月 2日
特許 7862961	垂直炉反応器アセンブリ、環状フランジユニットの整列方法、および使用	2026年 5月20日
特許 7853480	固体ソースプリカーサ容器	2026年 4月28日
特許 7853074	多方向性反応チャンバを有する反応器システム	2026年 4月28日
特許 7850214	周期的堆積プロセスにより基材上にレニウム含有膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造	2026年 4月22日
特許 7849220	半導体処理システムにおいてガス流を制御するシステムおよび方法	2026年 4月21日
特許 7849154	表面を洗浄する方法	2026年 4月21日
特許 7846802	半導体加工装置	2026年 4月15日
特許 7846530	ウエハボート	2026年 4月15日
特許 7842160	周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造	2026年 4月 7日
特許 7835920	基板処理装置、キャリブレーション方法	2026年 3月25日
特許 7835531	基材を処理するための基材処理装置および方法	2026年 3月25日
特許 7832022	温度制御された反応チャンバー	2026年 3月17日

43 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7879212 7875238 7868954 7862961 7853480 7853074 7850214 7849220 7849154 7846802 7846530 7842160 7835920 7835531 7832022

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数