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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第816位 33件
(2022年:第995位 26件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第834位 28件
(2022年:第1537位 13件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2023-183402 | 半導体工程用組成物、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2023年12月27日 | |
特開 2023-182805 | ブランクマスク用基板の洗浄方法、ブランクマスク用基板及びそれを含むブランクマスク | 2023年12月26日 | |
特開 2023-171263 | シャドーマスク及びそれを用いたブランクマスクの製造方法 | 2023年12月 1日 | |
特開 2023-168235 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2023年11月24日 | |
特開 2023-159885 | コンディショナー及びそれを制御する方法{CONDITIONER AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME} | 2023年11月 1日 | |
特開 2023-158653 | 濡れ性改善研磨パッドおよびその製造方法 | 2023年10月30日 | |
特開 2023-156987 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | 2023年10月25日 | |
特開 2023-156988 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の研磨方法 | 2023年10月25日 | |
特開 2023-140304 | 極紫外線用フォトマスク | 2023年10月 4日 | |
特開 2023-139262 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2023年10月 3日 | |
特表 2023-540708 | 半導体工程用研磨組成物、研磨組成物の製造方法および研磨組成物を適用した半導体素子の製造方法 | 2023年 9月26日 | |
特開 2023-106354 | 半導体工程用組成物、その製造方法およびこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2023年 8月 1日 | |
特開 2023-99476 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2023年 7月13日 | |
特開 2023-91743 | 積層体の製造方法及び積層体 | 2023年 6月30日 | |
特開 2023-88844 | ブランクマスク、ブランクマスク成膜装置及びブランクマスクの製造方法 | 2023年 6月27日 |
34 件中 1-15 件を表示
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2023-183402 2023-182805 2023-171263 2023-168235 2023-159885 2023-158653 2023-156987 2023-156988 2023-140304 2023-139262 2023-540708 2023-106354 2023-99476 2023-91743 2023-88844
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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