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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第12004位 1件
(
2010年:第5677位 3件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第24706位 0件
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2010年:第22882位 0件)
(ランキング更新日:2025年12月5日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-49556 | フラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための方法、パターンセット形成方法、半導体素子製造方法、およびフラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための装置 | 2011年 3月10日 |
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12月6日(土) - 東京 千代田区
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12月10日(水) - 東京 千代田区
12月10日(水) -
12月10日(水) -
12月10日(水) -
12月11日(木) -
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12月11日(木) -
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12月12日(金) -
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