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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第4165位 4件
(
2013年:第3781位 5件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第10386位 1件
(
2013年:第25899位 0件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2014-530494 | 光学リソグラフィを用いて製造するべき基板上の画像を最適化するための方法およびシステム | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-195071 | 半導体装置レイアウトデザインのフラクチャリングまたはマスクデータ準備のための方法およびシステム、ならびにレチクル上に半導体レイアウトパターンを形成するための方法 | 2014年10月 9日 | |
| 特表 2014-520403 | 荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンを形成するための方法およびシステム | 2014年 8月21日 | |
| 特表 2014-512670 | 荷電粒子ビームリソグラフィを使用してパターンを形成するための方法およびシステム | 2014年 5月22日 |
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2014-530494 2014-195071 2014-520403 2014-512670
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12月2日(火) -
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12月3日(水) -
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12月5日(金) -
12月6日(土) - 東京 千代田区
12月2日(火) -
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12月9日(火) - 大阪 大阪市
12月9日(火) -
12月10日(水) -
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12月12日(金) -
12月8日(月) - 愛知 名古屋市
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