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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第4129位 4件 (2011年:第12004位 1件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第25637位 0件 (2011年:第24706位 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2012-501476 | 2次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法 | 2012年 1月19日 | |
特表 2012-501475 | 可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法 | 2012年 1月19日 | |
特表 2012-501474 | 可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの光近接効果補正、設計、および製造のための方法 | 2012年 1月19日 | |
特表 2012-501473 | 光近接効果補正、設計およびキャラクタプロジェクションリソグラフィを用いたレチクルの製造のための方法 | 2012年 1月19日 |
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2012-501476 2012-501475 2012-501474 2012-501473
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11月25日(月) -
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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