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ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第3781位 5件
（
2012年：第4129位 4件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第25899位 0件
（
2012年：第25637位 0件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ディー・ツー・エス・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2013-516070 | 複数の露光経路を利用して荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンをフラクチャリングするための方法およびシステム | 2013年 5月 9日 | |
| 特表 2013-508972 | 引き込みショットを用いて、成形荷電粒子ビーム書込装置により書き込まれるパターンをフラクチャリングするための方法 | 2013年 3月 7日 | |
| 特表 2013-508973 | 荷電粒子ビームリソグラフィを用いて表面上にパターンを形成するための方法およびシステム | 2013年 3月 7日 | 共同出願 |
| 特表 2013-503486 | 荷電粒子ビームリソグラフィを用いて可変ビームぼけで表面を製造するための方法および装置 | 2013年 1月31日 | |
| 特表 2013-502729 | キャラクタプロジェクションリソグラフィを用いて可変倍率で表面を製造するための方法および装置 | 2013年 1月24日 |
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2013-516070 2013-508972 2013-508973 2013-503486 2013-502729
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