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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第4198位 4件 (2014年:第4165位 4件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2211位 7件 (2014年:第10386位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2015-520408 | 荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンを形成するための方法およびシステム | 2015年 7月16日 | |
特表 2015-515148 | 荷電粒子ビームリソグラフィを用いる限界寸法均一性のための方法およびシステム | 2015年 5月21日 | |
特開 2015-96958 | 可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの光近接効果補正、設計、および製造のための方法 | 2015年 5月21日 | |
特開 2015-43472 | 2次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法 | 2015年 3月 5日 |
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2015-520408 2015-515148 2015-96958 2015-43472
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