株式会社昭和真空
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第5492位 3件
（
2023年：第14015位 1件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第3695位 4件
（2023年：第10364位 1件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社昭和真空の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-115831 | 成膜装置 | 2024年 8月27日 | |
| 特開 2024-106833 | イオン源、イオン電流密度分布変更方法、及び基材処理装置 | 2024年 8月 8日 | |
| 特開 2024-93151 | 測定装置及び測定方法 | 2024年 7月 9日 |
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2024-115831 2024-106833 2024-93151
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