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 ■ 2024年 出願公開件数ランキング    第3095位 6件
					( 2023年:第35905位 0件)
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 ■ 2024年 特許取得件数ランキング    第2757位 6件
					( 2023年:第4609位 3件)
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(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 | 
|---|---|---|---|
| 特許 7586236 | 極端紫外線リソグラフィ用ペリクル | 2024年11月19日 | |
| 特許 7574375 | 吸収膜を備えた極端紫外線リソグラフィー用ブランクマスク及びこれを用いて製造されたフォトマスク | 2024年10月28日 | |
| 特許 7507943 | 極端紫外線リソグラフィー用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク | 2024年 6月28日 | |
| 特許 7475106 | 極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク | 2024年 4月26日 | |
| 特許 7448614 | 極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク | 2024年 3月12日 | |
| 特許 7446400 | フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク及びフォトマスク | 2024年 3月 8日 | 
6 件中 1-6 件を表示
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7586236 7574375 7507943 7475106 7448614 7446400
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11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月4日(火) -
11月5日(水) -
11月5日(水) -
11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
11月7日(金) -
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11月4日(火) -
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