株式会社トクヤマ
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第242位 168件
（
2020年：第332位 110件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第426位 59件
（2020年：第532位 43件）
（ランキング更新日：2026年3月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社トクヤマの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-195282 | 窒化アルミニウム粉末の包装方法 | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-195320 | ５−ブロモ−２−ハロゲン化安息香酸の製造方法 | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-195344 | ５−ブロモ−２−ハロゲン化安息香酸の製造方法 | 2021年12月27日 | |
| 再表 2020-166676 | 次亜塩素酸イオン、及びｐＨ緩衝剤を含む半導体ウェハの処理液 | 2021年12月16日 | |
| 再表 2021-117610 | 高純度塩化水素ガスの製造方法 | 2021年12月16日 | |
| 特開 2021-186712 | ＣＯ２分離膜およびＣＯ２分離膜の製造方法 | 2021年12月13日 | |
| 特開 2021-187692 | 多孔質金属酸化物粉末及びその製造方法 | 2021年12月13日 | |
| 特開 2021-187786 | イミド化合物、アミドアルコール化合物の水和物、それらの製造方法、ラクトン化合物の製造方法、及び、アミドアルコール化合物の無水物の製造方法 | 2021年12月13日 | |
| 再表 2021-59666 | ルテニウムの半導体用処理液及びその製造方法 | 2021年12月 2日 | |
| 再表 2021-100497 | トリクロロシランの製造方法 | 2021年12月 2日 | |
| 特開 2021-184454 | ルテニウムの半導体用処理液及びその製造方法 | 2021年12月 2日 | |
| 再表 2021-90565 | シリコン芯線のエッチング装置およびシリコン芯線のエッチング方法 | 2021年11月25日 | |
| 再表 2021-95329 | 塩化水素の脱湿方法 | 2021年11月25日 | |
| 再表 2021-100286 | フィルタ | 2021年11月25日 | |
| 特開 2021-181045 | 防汚性膜を有する基板の製造方法 | 2021年11月25日 |
170 件中 1-15 件を表示
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2021-195282 2021-195320 2021-195344 2020-166676 2021-117610 2021-186712 2021-187692 2021-187786 2021-59666 2021-100497 2021-184454 2021-90565 2021-95329 2021-100286 2021-181045
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