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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 5108941 | トランジスタアレイにおける閾値電圧のレイアウト感度の抑制方法 | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年12月26日 |
特許 5039698 | 複製されたロジックを使用するデバッグ及びテスト方法並びにシステム | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年10月 3日 |
特許 4989629 | 複製ロジック及びトリガロジックを用いたデバッグのための方法及びシステム | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年 8月 1日 |
特許 4925408 | プロセス感度モデルを用いてレイアウト内の製造問題領域を識別する方法 | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年 4月25日 |
特許 4909495 | 位相シフトフォトリソグラフィックマスクのための光学的近接補正 | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年 4月 4日 |
特許 4906118 | マスク設計及びマスク製造におけるマスク検査のための方法 | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年 3月28日 |
特許 4881398 | 目標パターンを定義するためのホトリソグラフイック・マスク | シノプシス, インコーポレイテッド | 2012年 2月22日 |
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5108941 5039698 4989629 4925408 4909495 4906118 4881398
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