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日産化学工業株式会社

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  2015年 出願公開件数ランキング    第252位 176件 上昇2014年:第276位 150件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第221位 135件 上昇2014年:第275位 146件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2015-51961 経皮吸収基材 2015年 3月19日
特開 2015-51968 水性懸濁状農薬組成物 2015年 3月19日
特開 2015-51972 新規なシリルイソシアヌレート化合物 2015年 3月19日
再表 2013-18802 縮合系ポリマーを有するEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物 2015年 3月 5日
再表 2013-18904 光配向処理法用の液晶配向剤、及びそれを用いた液晶配向膜 2015年 3月 5日
再表 2013-21949 置換4,4−ジフルオロ−2−ブテン−1−オン化合物及び置換イソキサゾリン化合物の製造方法 2015年 3月 5日
再表 2013-22099 スルホン構造を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 2015年 3月 5日
再表 2013-24840 高屈折率クラッド材料及び電気光学ポリマー光導波路 2015年 3月 5日
特開 2015-38534 レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 2015年 2月26日
特開 2015-38973 金属酸化物半導体層形成用前駆体組成物、金属酸化物半導体層及びその製造方法、並びに電界効果トランジスタ及び半導体デバイス 2015年 2月26日
再表 2012-165350 樹脂組成物 2015年 2月23日
再表 2012-165354 ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 2015年 2月23日
再表 2012-165355 組成物、液晶配向処理剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 2015年 2月23日
再表 2012-165620 二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物被覆酸化チタン含有金属酸化物粒子 2015年 2月23日
再表 2012-169580 ブロック共重合体とレジスト下層膜形成組成物 2015年 2月23日

194 件中 151-165 件を表示

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2015-51961 2015-51968 2015-51972 2013-18802 2013-18904 2013-21949 2013-22099 2013-24840 2015-38534 2015-38973 2012-165350 2012-165354 2012-165355 2012-165620 2012-169580

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