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ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社

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ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-239638	半導体素子集合体、半導体素子およびこれらの製造方法	2013年11月28日
特開 2013-236021	磁性部品とそれに用いられる金属粉末およびその製造方法	2013年11月21日
特開 2013-231840	電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア、および電子写真現像剤	2013年11月14日	共同出願
特開 2013-227681	金属粒子分散液	2013年11月 7日
再表 2012-26033	低温焼結性銀ナノ粒子組成物および該組成物を用いて形成された電子物品	2013年10月28日	共同出願
特開 2013-216537	フェライト粒子の製造方法	2013年10月24日	共同出願
特開 2013-209265	焼結粒子及びそれを用いた電子写真現像剤用キャリア、電子写真用現像剤並びに焼結粒子の製造方法	2013年10月10日	共同出願
特開 2013-206777	銀被覆フレーク状硝子粉およびその製造方法	2013年10月 7日
特開 2013-205689	フェライト粒子並びにそれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤	2013年10月 7日	共同出願
特開 2013-205784	電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア、および電子写真現像剤	2013年10月 7日	共同出願
特開 2013-207624	ブースターアンテナおよびその製造方法	2013年10月 7日
再表 2012-17718	触媒組成物の製造方法、触媒組成物、これを用いたディーゼル・パティキュレート・フィルタおよび排ガス浄化システム	2013年10月 3日
特開 2013-189704	球状銀粉およびその製造方法	2013年 9月26日
特開 2013-165261	ＩＩＩ族窒化物エピタキシャル基板および該基板を用いた深紫外発光素子	2013年 8月22日
再表 2011-161975	エピタキシャル成長基板及び半導体装置、エピタキシャル成長方法	2013年 8月19日

42 件中 1-15 件を表示

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2013-239638 2013-236021 2013-231840 2013-227681 2012-26033 2013-216537 2013-209265 2013-206777 2013-205689 2013-205784 2013-207624 2012-17718 2013-189704 2013-165261 2011-161975

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