※ ログインすれば出願人(大塚電子株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1583位 15件
(2020年:第3562位 5件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2482位 6件
(2020年:第2418位 6件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2020-174547 | 光線力学治療装置 | 2021年12月23日 | |
再表 2020-170330 | 光線力学的療法条件パラメータの決定方法および光線力学的療法装置 | 2021年12月16日 | |
特開 2021-171665 | 紫外線照射装置および紫外線照射方法 | 2021年11月 1日 | |
特開 2021-169938 | 光学測定システム、多層膜製造装置および光学測定方法 | 2021年10月28日 | |
特開 2021-169982 | ゼータ電位測定用治具 | 2021年10月28日 | |
特開 2021-165651 | 粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラム | 2021年10月14日 | |
特開 2021-165701 | 光学測定システムおよび光学測定方法 | 2021年10月14日 | |
特開 2021-143964 | 光学測定方法、光学測定装置及び光学測定プログラム | 2021年 9月24日 | |
再表 2020-59100 | 測定装置、および測定方法 | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-113799 | 光学測定装置および光学測定方法 | 2021年 8月 5日 | |
特開 2021-81192 | 光学測定装置のリニアリティ補正方法、光学測定方法及び光学測定装置 | 2021年 5月27日 | |
特開 2021-76489 | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-71339 | 光学測定方法および処理装置 | 2021年 5月 6日 | |
特開 2021-67557 | 光学測定装置および光学測定方法 | 2021年 4月30日 | |
特開 2021-67611 | 光学測定装置、波長校正方法および標準試料 | 2021年 4月30日 |
15 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2020-174547 2020-170330 2021-171665 2021-169938 2021-169982 2021-165651 2021-165701 2021-143964 2020-59100 2021-113799 2021-81192 2021-76489 2021-71339 2021-67557 2021-67611
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大塚電子株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
千葉県船橋市本町6-2-10 ダイアパレスステーションプラザ315 特許・実用新案 商標 外国商標 コンサルティング
東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
兵庫県西宮市高木西町18番5号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング