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三益半導体工業株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第3759位 5件
（
2016年：第33513位 0件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第24017位 0件
（2016年：第24808位 0件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三益半導体工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6118765 | シリコン単結晶ウェーハの熱処理方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6099996 | オゾン水を用いた洗浄方法及び洗浄装置 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6100226 | シリコン単結晶ウェーハの熱処理方法 | 2017年 3月22日 |
3 件中 1-3 件を表示
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6118765 6099996 6100226
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