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出願人名に「株式会社国際電気セミコンダクターサービス」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5592734 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 9月17日 |
| 特許 5567318 | 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 8月 6日 |
| 特許 5525765 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄処理方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 6月18日 |
| 特許 5499383 | 半導体ウェーハ抵抗率測定装置 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 5月21日 |
| 特許 5476006 | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持具の固定部及び半導体装置の製造方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 4月23日 |
| 特許 5475999 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理システム及び識別プログラム | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 4月16日 |
| 特許 5463543 | 半導体ウェーハ抵抗率測定装置及び測定方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 4月 9日 |
| 特許 5463540 | ４探針抵抗率測定装置及び４探針抵抗率測定方法 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 4月 9日 |
| 特許 5453582 | 超音波洗浄装置 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 3月26日 |
| 特許 5418877 | ４探針抵抗率測定装置 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 2014年 2月19日 |
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5592734 5567318 5525765 5499383 5476006 5475999 5463543 5463540 5453582 5418877
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