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出願人名に「株式会社国際電気セミコンダクターサービス」を含むもの

公報番号発明の名称出願人公報発行日
特許 5592734 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 9月17日
特許 5567318 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 8月 6日
特許 5525765 超音波洗浄装置及び超音波洗浄処理方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 6月18日
特許 5499383 半導体ウェーハ抵抗率測定装置 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 5月21日
特許 5476006 基板処理装置、基板処理装置の基板保持具の固定部及び半導体装置の製造方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 4月23日
特許 5475999 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理システム及び識別プログラム 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 4月16日
特許 5463543 半導体ウェーハ抵抗率測定装置及び測定方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 4月 9日
特許 5463540 4探針抵抗率測定装置及び4探針抵抗率測定方法 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 4月 9日
特許 5453582 超音波洗浄装置 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 3月26日
特許 5418877 4探針抵抗率測定装置 株式会社国際電気セミコンダクターサービス 2014年 2月19日

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5592734 5567318 5525765 5499383 5476006 5475999 5463543 5463540 5453582 5418877

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