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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第39位 620件 (2022年:第44位 592件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第56位 543件 (2022年:第64位 476件)
(ランキング更新日:2024年11月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-160798 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-160799 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-160800 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-160801 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-159570 | 光学積層体の屈曲耐久性の評価方法および光学積層体 | 2023年11月 1日 | |
特開 2023-158884 | 光学積層体の像鮮明度の評価方法および光学積層体 | 2023年10月31日 | |
特開 2023-158940 | フレキシブル光学積層体 | 2023年10月31日 | |
特開 2023-159077 | 積層体及びその製造方法 | 2023年10月31日 | |
特開 2023-158646 | 組成物及びそれを用いた発光素子 | 2023年10月30日 | |
特開 2023-157939 | 液晶硬化膜形成用組成物及びその用途 | 2023年10月26日 | |
特開 2023-157978 | 光学異方性シート | 2023年10月26日 | |
特開 2023-157999 | 窒化物半導体基板 | 2023年10月26日 | |
特開 2023-156256 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年10月24日 | |
特開 2023-156257 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年10月24日 | |
特開 2023-156258 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2023年10月24日 |
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2023-160798 2023-160799 2023-160800 2023-160801 2023-159570 2023-158884 2023-158940 2023-159077 2023-158646 2023-157939 2023-157978 2023-157999 2023-156256 2023-156257 2023-156258
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11月13日(水) -
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11月15日(金) -
11月15日(金) - 東京 港区
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11月19日(火) -
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11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
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11月21日(木) - 愛知 名古屋市
11月21日(木) -
11月21日(木) -
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11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
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11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
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