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住友化学株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第39位 620件 上昇2022年:第44位 592件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第56位 543件 上昇2022年:第64位 476件)

(ランキング更新日:2024年11月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-160798 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年11月 2日
特開 2023-160799 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年11月 2日
特開 2023-160800 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年11月 2日
特開 2023-160801 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年11月 2日
特開 2023-159570 光学積層体の屈曲耐久性の評価方法および光学積層体 2023年11月 1日
特開 2023-158884 光学積層体の像鮮明度の評価方法および光学積層体 2023年10月31日
特開 2023-158940 フレキシブル光学積層体 2023年10月31日
特開 2023-159077 積層体及びその製造方法 2023年10月31日
特開 2023-158646 組成物及びそれを用いた発光素子 2023年10月30日
特開 2023-157939 液晶硬化膜形成用組成物及びその用途 2023年10月26日
特開 2023-157978 光学異方性シート 2023年10月26日
特開 2023-157999 窒化物半導体基板 2023年10月26日
特開 2023-156256 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年10月24日
特開 2023-156257 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年10月24日
特開 2023-156258 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 2023年10月24日

629 件中 91-105 件を表示

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2023-160798 2023-160799 2023-160800 2023-160801 2023-159570 2023-158884 2023-158940 2023-159077 2023-158646 2023-157939 2023-157978 2023-157999 2023-156256 2023-156257 2023-156258

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