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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第37位 650件
(2023年:第39位 620件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第57位 458件
(2023年:第56位 543件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7580200 | 光学積層体 | 2024年11月11日 | |
特許 7580504 | 光学フィルム | 2024年11月11日 | |
特許 7580651 | プロピレン樹脂組成物 | 2024年11月11日 | |
特許 7579061 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 7日 | |
特許 7579066 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 7日 | |
特許 7578422 | 光学積層体 | 2024年11月 6日 | |
特許 7578659 | 複合位相差板、光学積層体、及び画像表示装置 | 2024年11月 6日 | |
特許 7578714 | 化合物 | 2024年11月 6日 | |
特許 7577466 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 5日 | |
特許 7577469 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 5日 | |
特許 7577470 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 5日 | |
特許 7577520 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年11月 5日 | |
特許 7576408 | 偏光膜、偏光板、光学積層体、楕円偏光板、有機EL表示装置およびフレキシブル画像表示装置 | 2024年10月31日 | |
特許 7576724 | 組成物、重合体、硬化物、成形体及びポリメタクリル酸メチルの製造方法 | 2024年10月31日 | |
特許 7576725 | 組成物、硬化物、および成形体 | 2024年10月31日 |
463 件中 61-75 件を表示
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7580200 7580504 7580651 7579061 7579066 7578422 7578659 7578714 7577466 7577469 7577470 7577520 7576408 7576724 7576725
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