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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第36位 519件
(
2025年:第38位 622件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第53位 355件
(
2025年:第58位 437件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7933190 | スパッタリングターゲット | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932948 | 再生樹脂組成物 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932914 | ポリイミド系フィルム | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932712 | スパッタリングターゲット材及びスパッタリングターゲット材の製造方法 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932250 | 偏光板の製造方法 | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7931920 | 窒化物半導体基板 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7931607 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7929310 | 位相差層積層体、偏光積層体、及び画像表示装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929103 | 円偏光板およびそれを用いる有機EL表示装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7927934 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7927562 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7926832 | 光学積層体 | 2026年 9月30日 | |
| 特許 7926823 | 光学積層体および画像表示装置 | 2026年 9月30日 | |
| 特許 7925752 | スパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7925971 | 親水撥油重合体 | 2026年 9月28日 |
357 件中 31-45 件を表示
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7933190 7932948 7932914 7932712 7932250 7931920 7931607 7929310 7929103 7927934 7927562 7926832 7926823 7925752 7925971
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