アイメックの特許出願公開一覧 2013年

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公報番号	発明の名称	出願人	公報発行日
特表 2013-545354	ＭＥＭＳデバイス用のマルチ温度マイクロオーブンの設計および制御	アイメック　他	2013年12月19日
特表 2013-543266	縦型半導体メモリデバイス及びその製造方法	アイメック	2013年11月28日
特開 2013-228736	ホログラフィック反射撮像装置および方法	アイメック	2013年11月 7日
特開 2013-228735	ホログラフィック反射撮像装置および方法	アイメック	2013年11月 7日
特表 2013-538339	活性ドーパントプロファイルの決定方法	アイメック　他	2013年10月10日
特開 2013-208953	セミクローラ	株式会社アイメック	2013年10月10日
特表 2013-535110	薄膜トランジスタの製造方法及びトランジスタ回路	アイメック　他	2013年 9月 9日
特表 2013-533959	ドープした半導体領域の活性ドーピング濃度の決定方法	アイメック　他	2013年 8月29日
特開 2013-166689	欠陥の無いヘテロエピタキシャルのためのマスク構造および方法	アイメック	2013年 8月29日
特開 2013-162131	自己絶縁型導電性ブリッジメモリデバイス	アイメック	2013年 8月19日
特開 2013-153151	トンネル電界効果トランジスタ及びその製造方法	アイメック	2013年 8月 8日
特開 2013-148906	マイクロミラーアレイの校正	アイメック	2013年 8月 1日
特開 2013-145874	ＥＵＶフォトレジスト封入	アイメック	2013年 7月25日
特開 2013-145882	インプラントフリー量子井戸トランジスタ、そのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの作製方法、およびそのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの使用	アイメック　他	2013年 7月25日
特開 2013-143566	ＬＥＤデバイスの製造方法	アイメック	2013年 7月22日

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2013-545354 2013-543266 2013-228736 2013-228735 2013-538339 2013-208953 2013-535110 2013-533959 2013-166689 2013-162131 2013-153151 2013-148906 2013-145874 2013-145882 2013-143566

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