アイメックの特許登録一覧 2013年

出願人名に「アイメック」を含むもの

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公報番号	発明の名称	出願人	公報発行日
特許 5374147	厚いシリコン酸化物とシリコン窒化物の保護層を有する光起電電池とその作製	アイメック	2013年12月25日
特許 5374504	エミッタ構造の作製方法とその結果のエミッタ構造	アイメック	2013年12月25日
特許 5363343	多結晶半導体材料層の低温形成	アイメック	2013年12月11日
特許 5361128	ゲート電極の高さの制御方法	アイメック	2013年12月 4日
特許 5351384	純粋シリカゼオライトを機能化及び疎水化するためのＵＶ光照射	アイメック　他	2013年11月27日
特許 5348913	ＥＳＤ試験システム較正	アイメック　他	2013年11月20日
特許 5334367	高密度集積回路の製造方法	アイメック	2013年11月 6日
特許 5334377	シリコン基板上にＩＩＩ族窒化物材料を積層するための方法	アイメック　他	2013年11月 6日
特許 5336070	選択エピタキシャル成長プロセスの改良方法	アイメック	2013年11月 6日
特許 5328094	選択的に高ｋ材をエッチングするためのプラズマ組成	アイメック	2013年10月30日
特許 5329355	硬化フォトレジストを半導体基板から除去する方法	アイメック	2013年10月30日
特許 5329800	触媒ナノ粒子の制御および選択的な形成	アイメック	2013年10月30日
特許 5324568	ソフトウェア無線端末のためのプログラマブルデバイス	アイメック	2013年10月23日
特許 5317124	湿式媒体撹拌粉砕分散機	アイメックス株式会社	2013年10月16日
特許 5313429	光リソグラフィ方法	アイメック	2013年10月 9日

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5374147 5374504 5363343 5361128 5351384 5348913 5334367 5334377 5336070 5328094 5329355 5329800 5324568 5317124 5313429

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