公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5641374 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年12月17日 |
特許 5639686 | 基板処理方法 | セメス株式会社 | 2014年12月10日 |
特許 5630667 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年11月26日 |
特許 5626611 | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | セメス株式会社 | 2014年11月19日 |
特許 5578377 | 基板処理装置及び方法 | セメス株式会社 | 2014年 8月27日 |
特許 5578374 | 可変キャパシター、プラズマインピーダンスマッチング装置、及び基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 8月27日 |
特許 5572198 | 基板処理装置及び薬液再生方法 | セメス株式会社 | 2014年 8月13日 |
特許 5561313 | アンテナユニット、それを含む基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月30日 |
特許 5544669 | ガス噴射ユニット及びこれを利用する薄膜蒸着装置及び方法 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
特許 5544666 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
特許 5544667 | 基板支持ユニット及びこれを含む基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
特許 5536009 | 基板加工装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 2日 |
特許 5516907 | 基板処理装置及びその基板移送方法 | セメス株式会社 | 2014年 6月11日 |
特許 5507218 | ユーザーインターフェイスを利用して半導体製造設備を制御するシステム、及びその方法 | セメス株式会社 | 2014年 5月28日 |
特許 5497127 | プレート、これを有する基板温度調節装置及びこれを有する基板処理装置。 | セメス株式会社 | 2014年 5月21日 |
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10月15日(水) - 東京 港区
10月15日(水) -
10月15日(水) -
10月16日(木) - 大阪 大阪市
10月16日(木) -
10月16日(木) -
10月16日(木) - 東京 新宿区
10月16日(木) -
10月17日(金) - 東京 千代田区
10月17日(金) - 神奈川 川崎市
10月17日(金) -
10月15日(水) - 東京 港区
10月20日(月) -
10月21日(火) -
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) -
10月21日(火) - 大阪 大阪市
10月21日(火) -
10月22日(水) - 東京 港区
10月22日(水) - 東京 品川
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10月22日(水) - 栃木 宇都宮市
10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) - 東京 千代田区
10月24日(金) -
10月24日(金) -
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