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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「セメス株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5641374 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年12月17日 |
| 特許 5639686 | 基板処理方法 | セメス株式会社 | 2014年12月10日 |
| 特許 5630667 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年11月26日 |
| 特許 5626611 | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | セメス株式会社 | 2014年11月19日 |
| 特許 5578377 | 基板処理装置及び方法 | セメス株式会社 | 2014年 8月27日 |
| 特許 5578374 | 可変キャパシター、プラズマインピーダンスマッチング装置、及び基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 8月27日 |
| 特許 5572198 | 基板処理装置及び薬液再生方法 | セメス株式会社 | 2014年 8月13日 |
| 特許 5561313 | アンテナユニット、それを含む基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月30日 |
| 特許 5544669 | ガス噴射ユニット及びこれを利用する薄膜蒸着装置及び方法 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
| 特許 5544666 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
| 特許 5544667 | 基板支持ユニット及びこれを含む基板処理装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 9日 |
| 特許 5536009 | 基板加工装置 | セメス株式会社 | 2014年 7月 2日 |
| 特許 5516907 | 基板処理装置及びその基板移送方法 | セメス株式会社 | 2014年 6月11日 |
| 特許 5507218 | ユーザーインターフェイスを利用して半導体製造設備を制御するシステム、及びその方法 | セメス株式会社 | 2014年 5月28日 |
| 特許 5497127 | プレート、これを有する基板温度調節装置及びこれを有する基板処理装置。 | セメス株式会社 | 2014年 5月21日 |
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5641374 5639686 5630667 5626611 5578377 5578374 5572198 5561313 5544669 5544666 5544667 5536009 5516907 5507218 5497127
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