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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「セメス株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5343942 | 基板研磨装置及び方法 | セメス株式会社 | 2013年11月13日 |
| 特許 5341829 | 基板処理方法及び装置 | セメス株式会社 | 2013年11月13日 |
| 特許 5324323 | ケミカルフロー方法、及びこれを用いる集積回路素子の製造方法、並びに装置 | セメス株式会社 | 2013年10月23日 |
| 特許 5279463 | 枚葉式基板処理装置及び方法 | セメス株式会社 | 2013年 9月 4日 |
| 特許 5273750 | スピンヘッド | セメス株式会社 | 2013年 8月28日 |
| 特許 5265622 | 基板加熱ユニット及びこれを含む基板処理装置 | セメス株式会社 | 2013年 8月14日 |
| 特許 5254188 | スピンヘッド | セメス株式会社 | 2013年 8月 7日 |
| 特許 5234665 | スピンヘッドとこれを有する基板処理装置 | セメス株式会社 | 2013年 7月10日 |
| 特許 5218781 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2013年 6月26日 |
| 特許 5221696 | 薬液供給ユニット及びそれを有する基板処理装置 | セメス株式会社 | 2013年 6月26日 |
| 特許 5196020 | 基板処理装置及びこれの基板移送方法 | セメス株式会社 | 2013年 5月15日 |
| 特許 5190661 | 基板移送装置、これを有する基板処理装置及びこれの基板移送方法 | セメス株式会社 | 2013年 4月24日 |
| 特許 5181306 | 基板処理システム、露光前後処理ユニット及び基板処理方法 | セメス株式会社 | 2013年 4月10日 |
| 特許 5179324 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2013年 4月10日 |
| 特許 5174791 | 基板支持ユニットと、それを使用する基板研磨装置及び方法 | セメス株式会社 | 2013年 4月 3日 |
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5343942 5341829 5324323 5279463 5273750 5265622 5254188 5234665 5218781 5221696 5196020 5190661 5181306 5179324 5174791
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