出願人名に「セメス株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4834710 | 基板洗浄方法及び装置 | セメス株式会社 | 2011年12月14日 |
| 特許 4822136 | プラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理装置 | セメス株式会社 | 2011年11月24日 |
| 特許 4815614 | スピンヘッド | セメス株式会社 | 2011年11月16日 |
| 特許 4790743 | 炭素ナノチューブ合成装置及び炭素ナノチューブ合成システム | セメス株式会社 | 2011年10月12日 |
| 特許 4784944 | 処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法 | セメス株式会社 | 2011年10月 5日 |
| 特許 4772095 | パーティクル排出ユニット及びこれを含む基板移送装置 | セメス株式会社 | 2011年 9月14日 |
| 特許 4768004 | ブラシアセンブリ及びこれを有する基板洗浄装置 | セメス株式会社 | 2011年 9月 7日 |
| 特許 4722869 | 平板パネル洗浄装置 | セメス株式会社 | 2011年 7月13日 |
| 特許 4719242 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2011年 7月 6日 |
| 特許 4704418 | 炭素ナノチューブ合成装置及び方法 | セメス株式会社 | 2011年 6月15日 |
| 特許 4683241 | 枚葉式基板洗浄設備 | セメス株式会社 | 2011年 5月18日 |
| 特許 4615580 | 基板処理装置 | セメス株式会社 | 2011年 1月19日 |
| 特許 4615549 | 炭素ナノチューブ製造用反応チャンバー、炭素ナノチューブ製造装置、及び炭素ナノチューブ製造システム | セメス株式会社 | 2011年 1月19日 |
| 特許 4611097 | 基板処理装置および基板処理方法 | セメス株式会社 | 2011年 1月12日 |
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4834710 4822136 4815614 4790743 4784944 4772095 4768004 4722869 4719242 4704418 4683241 4615580 4615549 4611097
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